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박막장비
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진공증착장비(VACUUM EVAPORATOR)
본 장비는 진공중에서 고순도의 금속이나 비금속 물질을 물체에 Coating 할 수 있는
장치로서 여러 용도의 박막 연구에 사용 할 수 있다.
용도 : 반도체,센서,광학 관련
연구등.
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<SPECIFICATION> |
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T Y P E
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SHE - 4D - 200
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SHE - 6D - 300
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SHE -8D -400
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도 달 압 력 (torr)
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10-6
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배 기 시 간
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10-5 torr 대 15분 이내
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가 열 온 도
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600
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증 발 원
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2 SET
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VALVE 조작
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자동 또는 수동
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배기계 조작
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자동 또는 수동
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진 공 조
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210 × 250H
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310 × 450H
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500 × 500H
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내 부 기 구
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회전기구,샷다,가열히타,증발원
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유 확 산 PUMP
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SD - 4C
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SD - 6C
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SD - 8C
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진 공 PUMP(L/min)
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180
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380
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600
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OPTION
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COLD TRAP,e-BEAM GUN,THICKNESS MONITOR
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DIMENSION
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900 × 800 × 1000
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900 × 800 × 1000
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900 × 800 × 1200
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다층막
증착장비(MULTI-LAYER VACUUM EVAPROATOR)
본 장비는 광학 GLASS,금속,PLASTIC등의 다층막 증착 장치이다.
저항가열 또는 전자빔에 의해 증착 시간을 단축 시키고 작업 효율을 높인다.
용도 : 광학
관계,반사경,악세사리
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<SPECIFICATION>
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T Y P E
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SHM 10D - 600
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SHM - 14D - 800
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SHM - 18D - 1000
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도 달 압 력
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10-6 torr
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배 기 시 간
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5 ×10-5 대 15분 이내
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기 판 가 열
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MAX. 450 ℃
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진 공 조 (mm)
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Ø600 × 700H
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Ø800 ×1000H
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Ø1000 ×1500H
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내 부 기 구
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공전치구,히타,삿다
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증 발 원
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저항가열식 또는 전자총
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배기계 주 PUMP
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SD - 10C
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SD - 14C
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SD - 18C
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박 막 제 어 법
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MONITOR 제어
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장 비 제 어
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수동 또는 PLC 제어
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보 조 PUMP
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ROTARY PUMP + MECHANICAL BOOSTER PUMP
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박 막 분 포
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표준기판 Al 10% 이내
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스퍼터
장비(SPUTTER)
본 장비는 높은 생산성과 고품질의 제품을 생산하기위한 양산용과 박막에
관련된 연구용으로 제작하고
있습니다.
용도 : 공구류의 Hard Coating,EMI 실드등 Plastic 관련,시계
케이스등
장식품 및 기타 박막 연구용.
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| <SPECIATION(양산용)> |
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T Y P E
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SHSV -15D -1000
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SHSH - 15D - 1000 |
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도 달 진 공 도
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10-6 torr
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배 기 시 간
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10-6 torr 대 15분이내
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진 공 조 (mm)
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Ø800 × 1000H
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Ø1000 × 1000L
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내 부 기 구
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HEATER,회전기구,BIAS
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MAGNETRON GUN
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W127 × L787
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POWER SUPPLY
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DC 10kW × 4 (RF OPTION)
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GAS SUPPLY
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3 MFC
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PRESSURE CONTROL
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APC AND MANUAL
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배기계 주 PUMP
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15" DP×2
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CRYO PUMP OPTION
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장비 DIMENSION
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1200 × 1200 ×1800
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2500 ×2000 × 1700
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이온
프레이팅 장치(ION PLATING SYSTEM)
본 장비는 양산용 이온 프레이팅 장치로서 높은 생산성과 고품질의 제품을
생산 할 수 있다.
용도 :
공구등 Hard Coating,시계케이스등
장식품 (Ti,Cr,Tin,Zin,*Option:
Ticn,Aitin)
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| <SPECTATION> |
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T Y P E
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SHIP - 10D - 600
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SHIP - 18D - 10000 |
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도 달 진 공 도
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10-6 torr
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배 기 시 간
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10-5 torr 대 15분 이내 |
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진 공 조 (mm)
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Ø800 × 1000H
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Ø1000 × 1000H |
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내 부 기 구
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HEATER,회전기구 |
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증 발 기 구
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HCD GUN × 2 SET (HALO CATHODE GUN) |
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ARC GUN × 6 SET (6" EXTENSION MODULE) |
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GAS SUPPLY
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4 MFC LINE |
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PRESSURE CONTROL
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APC CONTROL |
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배기계주 PUMP
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SD - 12C |
SD - 18C |
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CRYO PUMP OPTION
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장 비 DIMENSION
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2200 × 1200 × 1800 |
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* 상기 사양들은 주문에 의해 바뀔 수 있습니다
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이밖에
다음과 같은 장비들을 주문 제작합니다.
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전자총 증착 장비(e-BEAM EVAPORATOR)
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LASER 증착 장비(LASER ABLATION SYSTEM)
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C.V.D(PECVD,MOCVD,LPCVD,PHOTO CVD)
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ETCHER(R.I.E , I.C.P , MICO WAVE)
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